动画科普：ASML光刻机到底在“刻”什么？
光刻机到底在“刻”什么？
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，就是整个流程中的一个重要步骤，其实并没有真正地在“刻”，是将光罩上具有各种电子特性的区域图即电路图形，微缩并曝光成像在晶圆上，为流程中的后续步骤在晶圆上打好蓝图。
聪明如你，此时你一定会说：这不就是拍照咯？
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克洛诺斯超精密气浮平台
克洛诺斯科技成功研发重复定位精度达到±50纳米的超精密纳米级气浮平台，可应用于晶圆检测、晶圆切割、晶圆封装工艺。
超精密气浮平台是精密机械中的关键部件之一，超精密定位运动气浮平台系统是以空气轴承支撑、直线电机直接驱动的高刚性运动系统。主要构成部分包括底座、导轨、气浮滑块等，采用直线电机驱动。它为微光刻技术、数控加工、生物技术、IC 封装设备、纳米表面形貌测量等领域提供一个能够实现精密定位、检测和精确运动的载物平台，成为先进的电子制造设备，如光刻机贴片机工作的主要机构，充分解决高精度零件在加工、检测等方面的难题。
核心工艺，自主可控，克洛诺斯超精密纳米级气浮平台实现了±50纳米的重复定位精度，跻身国内高端半导体领域，将在大规模集成电路制造和光学检测等方面广泛应用。
