克洛诺斯参与起草的直写光刻技术国家标准正式实施

      快讯！克洛诺斯科技参与起草的直写光刻设备GB/T 43725-2024《直写成像式曝光设备》国家标准已通过国家标委会的审核，已于2024年10月1日正式实施。

       当前，直写光刻设备在PCB及泛半导体领域广泛应用和发展，成为一种新兴的微纳加工设备，但在微纳加工产业装备产业中缺乏直写光刻设备的国家标准。直写光刻技术具备显著优势，诸如数字化掩模设计，无需传统掩模版，降低生产成本；简化工艺流程，大幅缩减生产周期；通过减少工艺步骤提高产品良率；并且易于实现智能化管控，为构建全自动无人工厂提供有力支持。

       面对当前PCB及IC封装载板直写曝光设备市场的蓬勃兴起与技术日新月异的变化，本项国家标准旨在弥补行业标准空白，对设备的设计、制造、检测、安装维护、质量检测与保证等全生命周期环节设定统一、科学的技术规则，从而为行业构建一套完备的体系标准。

       克洛诺斯作为一家高端精密运动平台的专精特新“小巨人”企业，已扎根在国内各先进制造领域十余年。而运动平台作为直写光刻设备的核心部件之一，对标准制定的严谨性有着重要影响。在标准制定的过程中，克洛诺斯充分发挥自身的技术研发实力和丰富的实践经验，积极配合芯碁微装、标准化研究院等企业，参与运动平台在各个阶段的论证，力求确保标准的科学合理性、适用范围广泛性和对未来技术发展的预见性。

       克洛诺斯拥有近万种非标平台研发设计生产经验，目前已覆盖半导体量检测、半导体先进封装、面板显示、集成电路直写光刻、精密激光加工、新能源锂电光伏等应用领域。时至今日，克洛诺斯除了深圳总公司之外，还在安徽、山东、辽宁、江苏、韩国等地设立了子公司、分公司或办事处，并积极成立了相关研究院和研究中心，持续为各地合作伙伴提供具有核心竞争优势的运控平台。

       克洛诺斯科技立志成为一家百年企业，甚至是千年企业。为此克洛诺斯不但会持续进行创新技术研发，还愿意配合各大行业的支柱企业参与起草相关国家标准。书同文，车同轨，只有行业形成同一个标准，才能让中国高端制造业进一步提升。